| |
| 2005 | ||
|---|---|---|
| 1 | EE | A. Pecora, L. Maiolo, A. Bonfiglietti, M. Cuscunà, F. Mecarini, L. Mariucci, G. Fortunato, N. D. Young: Silicon dioxide deposited by ECR-PECVD for low-temperature Si devices processing. Microelectronics Reliability 45(5-6): 879-882 (2005) |
| 1 | A. Bonfiglietti | [1] |
| 2 | M. Cuscunà | [1] |
| 3 | G. Fortunato | [1] |
| 4 | L. Maiolo | [1] |
| 5 | F. Mecarini | [1] |
| 6 | A. Pecora | [1] |
| 7 | N. D. Young | [1] |